立式扩散炉 | 扩散炉 | 闭管软着陆扩散系统 | 微控扩散炉 | LPCVD | LED专业设备 | 链(带)式烧结炉 | 真空炉 | 芯片处理专用设备
主要技术指标
◆ 可配工艺管外径:2〜8英寸
◆ 可配工艺管数量:1〜4管/台
◆ 工作温度范围:400〜1300℃
◆ 单点温度稳定性:600〜1300℃±0.5℃/24h
◆ 最大可控升温速度:15℃/min
◆ 最大降温速度:5℃/min
◆ 恒温区长度及精度:300〜1000mm
600〜1300℃±0.5℃
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